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等離子體干法刻蝕，簡而言之，是一種在真空條件下利用氣體放電產生的等離子體，對材料表面進行高精度、可控性去除的微納加工技術。通過掩膜和刻蝕參數的精細調控，它能夠在硅片等基材上實現各向異性或各向同性的圖形轉移，從而形成所需的微觀結構。這項技術不僅是集成電路制造中不可少的關鍵工藝，更是支撐現代材料科學、微機電系統及光電子學領域前沿研究的基石。一套完整的科研型等離子體干法刻蝕系統是一個高度集成的精密設備，其核心由五大子系統構成。首先是真空腔體與預真空室(LoadLock)，前者是等離...
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TiO2/二維(ReS2,GeTe)薄膜異質結光催化劑制備及光電催化性能研究PLUTO-T型等離子清洗機適合在大學實驗室和研究機構使用的實驗室桌面型等離子清洗機。性能穩定，操作方便，參數響應反饋及時，深得科研人員的喜愛和贊同。浙江大學客戶使用PLUTO-T型等離子清洗機發表了論文。（1）采取球磨與超聲液相輔助剝離法制備二維層狀ReS2納米片，所制得的納米片尺寸約為200nm，厚度小于10nm。通過滴涂法工藝在一維TiO2垂直納米棒（NRs）陣列薄膜上涂覆ReS2納米片制備Ti...
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